韩国仁川国立大学Han-Bo-Ram Lee 教授来访我院共探纳米制造学术前沿

5月16至17日，韩国仁川国立大学教授Han-Bo-Ram Lee应我院副院长陈蓉邀请前来访问，与我院师生开展学术交流。

Lee教授参加了我院机械工程青年STAR学术论坛，并做了题为“The Industrial Ecosystem of Si Chips and Atomic Layer Deposition as a Key Nanofabrication Technology”的学术报告。他着重介绍了区域选择性沉积、原子层蚀刻等前沿技术在解决硅芯片制造瓶颈问题上的应用，深刻阐述了纳米制造技术在半导体行业发展中的重要地位。

来访期间，Lee教授作为学术期刊的副主编，针对原子层沉积技术及科研论文写作技巧等，做了题为“Publishing in Chemistry of Materials- How editors & reviewers evaluate your work”的报告，与参会师生进行交流探讨。

此外，Lee教授参观了我院微纳材料设计与制造研究中心，研究团队现场展示了自主研发的晶圆平面型、大幅面空间隔离型和微纳颗粒原子层沉积装备。他与现场科研人员就原子层沉积技术的关键细节、行业应用场景及未来发展趋势展开热烈讨论。

此次来访交流为我院师生提供了与海外专家交流的机会，更为双方在材料科学、纳米制造等领域开展进一步的深度合作研究奠定了坚实基础。

（摄影/谢霜艳 廖良敏）